Plateau à mouvements croisés de précision pour l’inspection des wafers

Le plateau à mouvements croisés de précision LMX que nous livrons est utilisé pour l’inspection simultanée de wafers en silicium.

Le plateau à mouvements croisés individualisé effectue le positionnement avec son axe rotatif ultraplat en direction X et X avec une précision de l’ordre du µ et travaille également extrêmement vite avec une accélération d’1 g. Montés sur du granit, nos guidages linéaires, moteurs linéaires et une table rotative forment une unité de déplacement, permettant avec sa hauteur de construction minimale associée à un arbre creux maximal, la réalisation de tâches de positionnement ultra précises, en plus de tâches de manipulation simple.

Des composants d’entraînement standardisés qui deviennent des systèmes de précision spécifiques aux clients, comme dans un système modulaire. Un grand nombre de systèmes standardisés aboutis, qui grâce à leur structure modulaire, peuvent être individualisés avec précision et performance, sont disponibles. Nos experts établissent avec vous le concept approprié pour votre système de précision. Informez-vous ici de manière détaillée sur nos axes de précision et systèmes de précision.

Exigences :

• Déplacements au µ près
• Accélérations extrêmement élevées
• Précision et répétabilité élevées

Domaines d'application :

• Industrie des semi-conducteurs